లక్ష్యం యొక్క పనితీరు అవసరాలు ఏమిటి

లక్ష్యం విస్తృత మార్కెట్, అప్లికేషన్ ప్రాంతం మరియు భవిష్యత్తులో పెద్ద అభివృద్ధిని కలిగి ఉంది.లక్ష్య విధులను బాగా అర్థం చేసుకోవడంలో మీకు సహాయపడటానికి, ఇక్కడ RSM ఇంజనీర్ లక్ష్యం యొక్క ప్రధాన కార్యాచరణ అవసరాలను క్లుప్తంగా పరిచయం చేస్తారు.

స్వచ్ఛత: లక్ష్యం యొక్క ప్రధాన క్రియాత్మక సూచికలలో స్వచ్ఛత ఒకటి, ఎందుకంటే లక్ష్యం యొక్క స్వచ్ఛత చిత్రం యొక్క పనితీరుపై గొప్ప ప్రభావాన్ని చూపుతుంది.అయితే, ఆచరణాత్మక అనువర్తనంలో, లక్ష్యం యొక్క స్వచ్ఛత అవసరాలు కూడా భిన్నంగా ఉంటాయి.ఉదాహరణకు, మైక్రోఎలక్ట్రానిక్స్ పరిశ్రమ యొక్క వేగవంతమైన అభివృద్ధితో, సిలికాన్ పొర పరిమాణం 6 "8″ నుండి 12" వరకు విస్తరించబడింది మరియు వైరింగ్ వెడల్పు 0.5um నుండి 0.25um, 0.18um లేదా 0.13um వరకు తగ్గించబడింది.గతంలో, లక్ష్య స్వచ్ఛతలో 99.995% 0.35umic ప్రాసెస్ అవసరాలను తీర్చగలదు, అయితే 0.18um లైన్‌ల తయారీకి 99.999% లేదా లక్ష్య స్వచ్ఛతలో 99.9999% అవసరం.

అశుద్ధ కంటెంట్: లక్ష్య ఘనపదార్థాలలోని మలినాలు మరియు రంధ్రాలలోని ఆక్సిజన్ మరియు నీటి ఆవిరి డిపాజిటెడ్ ఫిల్మ్‌ల యొక్క ప్రధాన కాలుష్య వనరులు.విభిన్న ప్రయోజనాల కోసం లక్ష్యాలు వేర్వేరు అశుద్ధ విషయాల కోసం వేర్వేరు అవసరాలను కలిగి ఉంటాయి.ఉదాహరణకు, సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో ఉపయోగించే స్వచ్ఛమైన అల్యూమినియం మరియు అల్యూమినియం మిశ్రమం లక్ష్యాలు క్షార లోహ కంటెంట్ మరియు రేడియోధార్మిక మూలకం కంటెంట్ కోసం ప్రత్యేక అవసరాలు కలిగి ఉంటాయి.

సాంద్రత: లక్ష్యం ఘనంలో రంధ్రాలను తగ్గించడానికి మరియు స్పుట్టరింగ్ ఫిల్మ్ పనితీరును మెరుగుపరచడానికి, లక్ష్యం సాధారణంగా అధిక సాంద్రత కలిగి ఉండాలి.లక్ష్యం యొక్క సాంద్రత స్పుట్టరింగ్ రేటును ప్రభావితం చేయడమే కాకుండా, ఫిల్మ్ యొక్క ఎలక్ట్రికల్ మరియు ఆప్టికల్ ఫంక్షన్‌లను కూడా ప్రభావితం చేస్తుంది.టార్గెట్ డెన్సిటీ ఎంత ఎక్కువగా ఉంటే సినిమా పనితీరు అంత మెరుగ్గా ఉంటుంది.అదనంగా, లక్ష్యం యొక్క సాంద్రత మరియు బలం మెరుగుపడతాయి, తద్వారా లక్ష్యం స్పుట్టరింగ్ ప్రక్రియలో ఉష్ణ ఒత్తిడిని బాగా అంగీకరించగలదు.లక్ష్యం యొక్క ముఖ్య క్రియాత్మక సూచికలలో సాంద్రత కూడా ఒకటి.