బాష్పీభవన పూత మరియు స్పుట్టరింగ్ పూత మధ్య తేడాలు

మనందరికీ తెలిసినట్లుగా, వాక్యూమ్ కోటింగ్‌లో సాధారణంగా ఉపయోగించే పద్ధతులు వాక్యూమ్ ట్రాన్స్‌పిరేషన్ మరియు అయాన్ స్పుట్టరింగ్.ట్రాన్స్పిరేషన్ కోటింగ్ మరియు స్పుట్టరింగ్ కోటింగ్ చాలా మధ్య తేడా ఏమిటిప్రజలు వంటి ప్రశ్నలు ఉన్నాయి.ట్రాన్స్‌పిరేషన్ కోటింగ్ మరియు స్పుట్టరింగ్ కోటింగ్ మధ్య వ్యత్యాసాన్ని మీతో పంచుకుందాం

వాక్యూమ్ ట్రాన్స్‌పిరేషన్ ఫిల్మ్ అంటే 10-2Pa కంటే తక్కువ లేని వాక్యూమ్ డిగ్రీ ఉన్న వాతావరణంలో రెసిస్టెన్స్ హీటింగ్ లేదా ఎలక్ట్రాన్ బీమ్ మరియు లేజర్ షెల్లింగ్ ద్వారా డేటాను నిర్ణీత ఉష్ణోగ్రతకు ట్రాన్స్‌పిరేషన్ చేయడానికి వేడి చేయడం, తద్వారా అణువుల థర్మల్ వైబ్రేషన్ శక్తి లేదా డేటాలోని పరమాణువులు ఉపరితలం యొక్క బంధన శక్తిని మించిపోతాయి, తద్వారా అనేక అణువులు లేదా పరమాణువులు ట్రాన్స్‌పిరేషన్ లేదా పెరుగుతాయి మరియు వాటిని నేరుగా ఉపరితలంపై నిక్షిప్తం చేసి ఫిల్మ్‌ను ఏర్పరుస్తాయి.అయాన్ స్పుట్టరింగ్ పూత కాథోడ్‌గా లక్ష్యాన్ని బాంబు పేల్చడానికి విద్యుత్ క్షేత్రం ప్రభావంతో గ్యాస్ ఉత్సర్గ ద్వారా ఉత్పన్నమయ్యే సానుకూల అయాన్ల యొక్క అధిక పునశ్చరణ కదలికను ఉపయోగిస్తుంది, తద్వారా లక్ష్యంలోని అణువులు లేదా అణువులు తప్పించుకొని పూత పూసిన వర్క్‌పీస్ ఉపరితలంపై జమ అవుతాయి. అవసరమైన చిత్రం.

వాక్యూమ్ ట్రాన్స్పిరేషన్ పూత యొక్క అత్యంత సాధారణంగా ఉపయోగించే పద్ధతి రెసిస్టెన్స్ హీటింగ్ పద్ధతి.దీని ప్రయోజనాలు తాపన మూలం యొక్క సాధారణ నిర్మాణం, తక్కువ ధర మరియు అనుకూలమైన ఆపరేషన్.దీని ప్రతికూలతలు ఏమిటంటే ఇది వక్రీభవన లోహాలు మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధక మీడియాకు తగినది కాదు.ఎలక్ట్రాన్ బీమ్ హీటింగ్ మరియు లేజర్ హీటింగ్ రెసిస్టెన్స్ హీటింగ్ యొక్క ప్రతికూలతలను అధిగమించగలవు.ఎలక్ట్రాన్ బీమ్ హీటింగ్‌లో, ఫోకస్డ్ ఎలక్ట్రాన్ పుంజం షెల్డ్ డేటాను నేరుగా వేడి చేయడానికి ఉపయోగించబడుతుంది మరియు ఎలక్ట్రాన్ బీమ్ యొక్క గతిశక్తి డేటా ట్రాన్స్‌పిరేషన్ చేయడానికి ఉష్ణ శక్తిగా మారుతుంది.లేజర్ తాపన అధిక-శక్తి లేజర్‌ను తాపన మూలంగా ఉపయోగిస్తుంది, అయితే అధిక-శక్తి లేజర్ యొక్క అధిక ధర కారణంగా, ఇది తక్కువ సంఖ్యలో పరిశోధనా ప్రయోగశాలలలో మాత్రమే ఉపయోగించబడుతుంది.

స్పుట్టరింగ్ నైపుణ్యం వాక్యూమ్ ట్రాన్స్‌పిరేషన్ నైపుణ్యానికి భిన్నంగా ఉంటుంది.స్పుట్టరింగ్ అనేది శరీరం యొక్క ఉపరితలంపై (లక్ష్యం) తిరిగి చార్జ్ చేయబడిన కణాలు బాంబు దాడి చేసే దృగ్విషయాన్ని సూచిస్తుంది, తద్వారా ఘన అణువులు లేదా అణువులు ఉపరితలం నుండి విడుదలవుతాయి.విడుదలయ్యే కణాలలో ఎక్కువ భాగం పరమాణువు, దీనిని తరచుగా స్పుటర్డ్ అణువులు అంటారు.షెల్లింగ్ లక్ష్యాల కోసం ఉపయోగించే చిందరవందర కణాలు ఎలక్ట్రాన్లు, అయాన్లు లేదా తటస్థ కణాలు కావచ్చు.అయాన్లు విద్యుత్ క్షేత్రంలో అవసరమైన గతి శక్తిని పొందడం సులభం కనుక, అయాన్లు ఎక్కువగా షెల్లింగ్ కణాలుగా ఎంపిక చేయబడతాయి.

స్పుట్టరింగ్ ప్రక్రియ గ్లో డిశ్చార్జ్‌పై ఆధారపడి ఉంటుంది, అంటే స్పుట్టరింగ్ అయాన్లు గ్యాస్ డిశ్చార్జ్ నుండి వస్తాయి.వేర్వేరు స్పుట్టరింగ్ నైపుణ్యాలు వేర్వేరు గ్లో ఉత్సర్గ పద్ధతులను కలిగి ఉంటాయి.DC డయోడ్ స్పుట్టరింగ్ DC గ్లో ఉత్సర్గను ఉపయోగిస్తుంది;ట్రయోడ్ స్పుట్టరింగ్ అనేది వేడి కాథోడ్ ద్వారా మద్దతు ఇచ్చే గ్లో డిశ్చార్జ్;RF స్పుట్టరింగ్ RF గ్లో ఉత్సర్గను ఉపయోగిస్తుంది;మాగ్నెట్రాన్ స్పుట్టరింగ్ అనేది వార్షిక అయస్కాంత క్షేత్రం ద్వారా నియంత్రించబడే గ్లో డిశ్చార్జ్.

వాక్యూమ్ ట్రాన్స్‌పిరేషన్ కోటింగ్‌తో పోలిస్తే, స్పుట్టరింగ్ పూత అనేక ప్రయోజనాలను కలిగి ఉంది.ఏదైనా పదార్ధం చిందరవందరగా ఉంటే, ముఖ్యంగా అధిక ద్రవీభవన స్థానం మరియు తక్కువ ఆవిరి పీడనంతో మూలకాలు మరియు సమ్మేళనాలు;స్పుటర్డ్ ఫిల్మ్ మరియు సబ్‌స్ట్రేట్ మధ్య సంశ్లేషణ మంచిది;అధిక ఫిల్మ్ సాంద్రత;ఫిల్మ్ మందాన్ని నియంత్రించవచ్చు మరియు పునరావృతం చేయడం మంచిది.ప్రతికూలత ఏమిటంటే పరికరాలు సంక్లిష్టంగా ఉంటాయి మరియు అధిక-వోల్టేజ్ పరికరాలు అవసరం.

అదనంగా, ట్రాన్స్పిరేషన్ పద్ధతి మరియు స్పుట్టరింగ్ పద్ధతి కలయిక అయాన్ ప్లేటింగ్.ఈ పద్ధతి యొక్క ప్రయోజనాలు ఫిల్మ్ మరియు సబ్‌స్ట్రేట్ మధ్య బలమైన సంశ్లేషణ, అధిక నిక్షేపణ రేటు మరియు ఫిల్మ్ యొక్క అధిక సాంద్రత.