ఎలక్ట్రానిక్స్, డిస్ప్లే మరియు ఇతర ఫీల్డ్‌లలో టార్గెట్ మెటీరియల్ యొక్క అప్లికేషన్

మనందరికీ తెలిసినట్లుగా, టార్గెట్ మెటీరియల్ టెక్నాలజీ అభివృద్ధి ధోరణి దిగువ అప్లికేషన్ పరిశ్రమలో ఫిల్మ్ టెక్నాలజీ అభివృద్ధి ధోరణికి దగ్గరి సంబంధం కలిగి ఉంటుంది.అప్లికేషన్ పరిశ్రమలో ఫిల్మ్ ప్రోడక్ట్స్ లేదా కాంపోనెంట్స్ యొక్క సాంకేతిక అభివృద్ధితో, టార్గెట్ టెక్నాలజీ కూడా మారాలి.ఉదాహరణకు, Ic తయారీదారులు ఇటీవల తక్కువ రెసిస్టివిటీ కాపర్ వైరింగ్ అభివృద్ధిపై దృష్టి సారించారు, ఇది రాబోయే కొద్ది సంవత్సరాలలో అసలు అల్యూమినియం ఫిల్మ్‌ను గణనీయంగా భర్తీ చేస్తుందని భావిస్తున్నారు, కాబట్టి రాగి లక్ష్యాల అభివృద్ధి మరియు వాటికి అవసరమైన అవరోధ లక్ష్యాలు అత్యవసరం.

అదనంగా, ఇటీవలి సంవత్సరాలలో, ఫ్లాట్ ప్యానెల్ డిస్‌ప్లే (FPD) క్యాథోడ్-రే ట్యూబ్ (CRT) ఆధారిత కంప్యూటర్ డిస్‌ప్లే మరియు టెలివిజన్ మార్కెట్‌ను ఎక్కువగా భర్తీ చేసింది.ఇది ITO లక్ష్యాల కోసం సాంకేతిక మరియు మార్కెట్ డిమాండ్‌ను కూడా బాగా పెంచుతుంది.ఆపై నిల్వ సాంకేతికత ఉంది.అధిక-సాంద్రత, పెద్ద-సామర్థ్యం గల హార్డ్ డ్రైవ్‌లు మరియు అధిక-సాంద్రత గల ఎరేసబుల్ డిస్క్‌లకు డిమాండ్ పెరుగుతూనే ఉంది.ఇవన్నీ అప్లికేషన్ పరిశ్రమలో లక్ష్య పదార్థాల డిమాండ్‌లో మార్పులకు దారితీశాయి.కింది వాటిలో, మేము లక్ష్యం యొక్క ప్రధాన అప్లికేషన్ ఫీల్డ్‌లను మరియు ఈ ఫీల్డ్‌లలో లక్ష్యం యొక్క అభివృద్ధి ధోరణిని పరిచయం చేస్తాము.

　　1. మైక్రోఎలక్ట్రానిక్స్

అన్ని అప్లికేషన్ పరిశ్రమలలో, సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ లక్ష్యం స్పుట్టరింగ్ ఫిల్మ్‌ల కోసం అత్యంత కఠినమైన నాణ్యత అవసరాలను కలిగి ఉంది.12 అంగుళాల (300 ఎపిస్టాక్సిస్) సిలికాన్ పొరలు ఇప్పుడు తయారు చేయబడ్డాయి.ఇంటర్‌కనెక్ట్ యొక్క వెడల్పు తగ్గుతోంది.లక్ష్య పదార్ధాల కోసం సిలికాన్ పొర తయారీదారుల అవసరాలు పెద్ద స్థాయి, అధిక స్వచ్ఛత, తక్కువ విభజన మరియు చక్కటి ధాన్యం, దీనికి లక్ష్య పదార్థాలు మెరుగైన సూక్ష్మ నిర్మాణాన్ని కలిగి ఉండటం అవసరం.స్ఫటికాకార కణ వ్యాసం మరియు లక్ష్య పదార్థం యొక్క ఏకరూపత చలనచిత్ర నిక్షేపణ రేటును ప్రభావితం చేసే ముఖ్య కారకాలుగా పరిగణించబడ్డాయి.

అల్యూమినియంతో పోలిస్తే, రాగి అధిక ఎలక్ట్రోమోబిలిటీ నిరోధకత మరియు తక్కువ రెసిస్టివిటీని కలిగి ఉంటుంది, ఇది 0.25um కంటే తక్కువ సబ్‌మిక్రాన్ వైరింగ్‌లో కండక్టర్ టెక్నాలజీ అవసరాలను తీర్చగలదు, అయితే ఇది ఇతర సమస్యలను తెస్తుంది: రాగి మరియు సేంద్రీయ మాధ్యమ పదార్థాల మధ్య తక్కువ సంశ్లేషణ బలం.అంతేకాకుండా, ప్రతిస్పందించడం సులభం, ఇది రాగి ఇంటర్‌కనెక్ట్ యొక్క తుప్పు మరియు చిప్ యొక్క ఉపయోగం సమయంలో సర్క్యూట్ విచ్ఛిన్నానికి దారితీస్తుంది.ఈ సమస్యను పరిష్కరించడానికి, రాగి మరియు విద్యుద్వాహక పొర మధ్య ఒక అవరోధ పొరను అమర్చాలి.

రాగి ఇంటర్‌కనెక్షన్ యొక్క అవరోధ పొరలో ఉపయోగించే లక్ష్య పదార్థాలు Ta, W, TaSi, WSi మొదలైనవి. కానీ Ta మరియు W వక్రీభవన లోహాలు.దీనిని తయారు చేయడం చాలా కష్టం, మరియు మాలిబ్డినం మరియు క్రోమియం వంటి మిశ్రమాలు ప్రత్యామ్నాయ పదార్థాలుగా అధ్యయనం చేయబడుతున్నాయి.

　　2. ప్రదర్శన కోసం

ఫ్లాట్ ప్యానెల్ డిస్‌ప్లే (FPD) సంవత్సరాలుగా కాథోడ్-రే ట్యూబ్ (CRT) ఆధారిత కంప్యూటర్ మానిటర్ మరియు టెలివిజన్ మార్కెట్‌ను బాగా ప్రభావితం చేసింది మరియు ITO టార్గెట్ మెటీరియల్‌ల కోసం సాంకేతికత మరియు మార్కెట్ డిమాండ్‌ను కూడా పెంచుతుంది.నేడు రెండు రకాల ITO లక్ష్యాలు ఉన్నాయి.ఒకటి సింటరింగ్ తర్వాత ఇండియం ఆక్సైడ్ మరియు టిన్ ఆక్సైడ్ పౌడర్ యొక్క నానోమీటర్ స్థితిని ఉపయోగించడం, మరొకటి ఇండియమ్ టిన్ మిశ్రమం లక్ష్యాన్ని ఉపయోగించడం.ITO ఫిల్మ్‌ను ఇండియమ్-టిన్ అల్లాయ్ టార్గెట్‌పై DC రియాక్టివ్ స్పుట్టరింగ్ ద్వారా రూపొందించవచ్చు, అయితే లక్ష్య ఉపరితలం ఆక్సీకరణం చెందుతుంది మరియు స్పుట్టరింగ్ రేటును ప్రభావితం చేస్తుంది మరియు పెద్ద పరిమాణ మిశ్రమం లక్ష్యాన్ని పొందడం కష్టం.

ఈ రోజుల్లో, ITO లక్ష్య పదార్థాన్ని ఉత్పత్తి చేయడానికి మొదటి పద్ధతి సాధారణంగా అవలంబించబడింది, ఇది మాగ్నెట్రాన్ స్పుట్టరింగ్ రియాక్షన్ ద్వారా స్పుట్టరింగ్ పూత.ఇది వేగవంతమైన నిక్షేపణ రేటును కలిగి ఉంది.ఫిల్మ్ మందం ఖచ్చితంగా నియంత్రించబడుతుంది, వాహకత ఎక్కువగా ఉంటుంది, ఫిల్మ్ యొక్క స్థిరత్వం మంచిది మరియు ఉపరితలం యొక్క సంశ్లేషణ బలంగా ఉంటుంది.కానీ లక్ష్య పదార్థాన్ని తయారు చేయడం కష్టం, ఎందుకంటే ఇండియం ఆక్సైడ్ మరియు టిన్ ఆక్సైడ్ సులభంగా కలిసి ఉండవు.సాధారణంగా, ZrO2, Bi2O3 మరియు CeO సింటరింగ్ సంకలితాలుగా ఎంపిక చేయబడతాయి మరియు సైద్ధాంతిక విలువలో 93%~98% సాంద్రతతో లక్ష్య పదార్థాన్ని పొందవచ్చు.ఈ విధంగా ఏర్పడిన ITO చలనచిత్రం యొక్క పనితీరు సంకలితాలతో గొప్ప సంబంధాన్ని కలిగి ఉంది.

అటువంటి లక్ష్య పదార్థాన్ని ఉపయోగించడం ద్వారా పొందిన ITO ఫిల్మ్ యొక్క నిరోధించే రెసిస్టివిటీ 8.1×10n-cmకి చేరుకుంటుంది, ఇది స్వచ్ఛమైన ITO ఫిల్మ్ యొక్క రెసిస్టివిటీకి దగ్గరగా ఉంటుంది.FPD మరియు వాహక గాజు పరిమాణం చాలా పెద్దది మరియు వాహక గాజు వెడల్పు కూడా 3133 మిమీకి చేరుకుంటుంది.లక్ష్య పదార్థాల వినియోగాన్ని మెరుగుపరచడానికి, స్థూపాకార ఆకారం వంటి విభిన్న ఆకృతులతో ITO లక్ష్య పదార్థాలు అభివృద్ధి చేయబడ్డాయి.2000లో, నేషనల్ డెవలప్‌మెంట్ ప్లానింగ్ కమీషన్ మరియు సైన్స్ అండ్ టెక్నాలజీ మంత్రిత్వ శాఖ ప్రస్తుతం అభివృద్ధికి ప్రాధాన్యత ఇస్తున్న సమాచార పరిశ్రమలోని ముఖ్య రంగాల మార్గదర్శకాలలో ITO పెద్ద లక్ష్యాలను చేర్చాయి.

　　3. నిల్వ ఉపయోగం

నిల్వ సాంకేతికత పరంగా, అధిక-సాంద్రత మరియు పెద్ద-సామర్థ్యం గల హార్డ్ డిస్క్‌ల అభివృద్ధికి పెద్ద సంఖ్యలో భారీ విముఖత ఫిల్మ్ మెటీరియల్స్ అవసరం.CoF~Cu మల్టీలేయర్ కాంపోజిట్ ఫిల్మ్ అనేది జెయింట్ రిలక్టెన్స్ ఫిల్మ్ యొక్క విస్తృతంగా ఉపయోగించే నిర్మాణం.మాగ్నెటిక్ డిస్క్‌కు అవసరమైన TbFeCo అల్లాయ్ టార్గెట్ మెటీరియల్ ఇంకా అభివృద్ధిలో ఉంది.TbFeCoతో తయారు చేయబడిన మాగ్నెటిక్ డిస్క్ పెద్ద నిల్వ సామర్థ్యం, ​​సుదీర్ఘ సేవా జీవితం మరియు పునరావృతమయ్యే నాన్-కాంటాక్ట్ ఎరేసబిలిటీ లక్షణాలను కలిగి ఉంటుంది.

యాంటిమోనీ జెర్మేనియం టెల్యురైడ్ బేస్డ్ ఫేజ్ చేంజ్ మెమరీ (PCM) గణనీయమైన వాణిజ్య సామర్థ్యాన్ని చూపింది, NOR ఫ్లాష్ మెమరీలో భాగంగా మారింది మరియు DRAM ఒక ప్రత్యామ్నాయ నిల్వ సాంకేతికతగా మారింది, అయితే, అమలులో మరింత వేగంగా స్కేల్ చేయబడిన మార్గంలో ఉన్న సవాళ్లలో ఒకటి రీసెట్ చేయకపోవడం. ప్రస్తుత ఉత్పత్తి పూర్తిగా మూసివున్న యూనిట్‌ను మరింత తగ్గించవచ్చు.రీసెట్ కరెంట్‌ని తగ్గించడం వలన మెమరీ పవర్ వినియోగాన్ని తగ్గిస్తుంది, బ్యాటరీ జీవితకాలం పొడిగిస్తుంది మరియు డేటా బ్యాండ్‌విడ్త్‌ను మెరుగుపరుస్తుంది, నేటి డేటా-సెంట్రిక్, అత్యంత పోర్టబుల్ వినియోగదారు పరికరాలలో అన్ని ముఖ్యమైన ఫీచర్లు.