స్పుట్టరింగ్ లక్ష్యాల అప్లికేషన్ ఫీల్డ్‌లు

మనందరికీ తెలిసినట్లుగా, స్పుట్టరింగ్ లక్ష్యాల యొక్క అనేక లక్షణాలు ఉన్నాయి మరియు వాటి అప్లికేషన్ ఫీల్డ్‌లు కూడా చాలా విస్తృతంగా ఉన్నాయి.వివిధ రంగాలలో సాధారణంగా ఉపయోగించే లక్ష్యాల రకాలు కూడా భిన్నంగా ఉంటాయి.ఈరోజు, RSM ఎడిటర్‌తో స్పుట్టరింగ్ టార్గెట్ అప్లికేషన్ ఫీల్డ్‌ల వర్గీకరణ గురించి తెలుసుకుందాం!

　　1, స్పుట్టరింగ్ లక్ష్యం యొక్క నిర్వచనం

సన్నని ఫిల్మ్ మెటీరియల్‌ను తయారు చేయడానికి స్పుట్టరింగ్ ప్రధాన సాంకేతికతలలో ఒకటి.ఇది అయాన్ మూలం ద్వారా ఉత్పత్తి చేయబడిన అయాన్‌లను వేగవంతం చేయడానికి మరియు శూన్యంలో ఒక హై-స్పీడ్ అయాన్ పుంజాన్ని ఏర్పరచడానికి, ఘన ఉపరితలంపై బాంబు దాడి చేయడానికి మరియు ఘన ఉపరితలంపై ఉన్న అణువులతో అయాన్లు గతి శక్తిని మార్పిడి చేయడానికి ఉపయోగిస్తుంది, తద్వారా ఘనపదార్థంపై అణువులు ఉపరితలం ఘనపదార్థం నుండి వేరు చేయబడుతుంది మరియు ఉపరితల ఉపరితలంపై జమ చేయబడుతుంది.బాంబర్డ్డ్ సాలిడ్ అనేది స్పుట్టరింగ్ ద్వారా నిక్షిప్తం చేయబడిన సన్నని పొరను సిద్ధం చేయడానికి ముడి పదార్థం, దీనిని స్పుట్టరింగ్ టార్గెట్ అంటారు.

　　2, స్పుట్టరింగ్ టార్గెట్ అప్లికేషన్ ఫీల్డ్‌ల వర్గీకరణ

　1. సెమీకండక్టర్ లక్ష్యం

(1) సాధారణ లక్ష్యాలు: ఈ రంగంలో సాధారణ లక్ష్యాలలో టాంటాలమ్ / కాపర్ / టైటానియం / అల్యూమినియం / బంగారం / నికెల్ వంటి అధిక ద్రవీభవన స్థానం లోహాలు ఉంటాయి.

(2) వినియోగం: ప్రధానంగా ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్‌లకు కీలక ముడి పదార్థాలుగా ఉపయోగించబడుతుంది.

(3) పనితీరు అవసరాలు: స్వచ్ఛత, పరిమాణం, ఏకీకరణ మొదలైన వాటి కోసం అధిక సాంకేతిక అవసరాలు.

　　2. ఫ్లాట్ ప్యానెల్ ప్రదర్శన కోసం లక్ష్యం

(1) సాధారణ లక్ష్యాలు: ఈ ఫీల్డ్‌లోని సాధారణ లక్ష్యాలలో అల్యూమినియం / కాపర్ / మాలిబ్డినం / నికెల్ / నియోబియం / సిలికాన్ / క్రోమియం మొదలైనవి ఉన్నాయి.

(2) వినియోగం: ఈ రకమైన లక్ష్యం టీవీలు మరియు నోట్‌బుక్‌ల వంటి వివిధ రకాల పెద్ద-ఏరియా చిత్రాల కోసం ఎక్కువగా ఉపయోగించబడుతుంది.

(3) పనితీరు అవసరాలు: స్వచ్ఛత, పెద్ద ప్రాంతం, ఏకరూపత మొదలైన వాటి కోసం అధిక అవసరాలు.

　　3. సోలార్ సెల్ కోసం టార్గెట్ మెటీరియల్

(1) సాధారణ లక్ష్యాలు: అల్యూమినియం / కాపర్ / మాలిబ్డినం / క్రోమియం / ITO/Ta మరియు సౌర ఘటాల కోసం ఇతర లక్ష్యాలు.

(2) వాడుక: ప్రధానంగా "విండో లేయర్", బారియర్ లేయర్, ఎలక్ట్రోడ్ మరియు కండక్టివ్ ఫిల్మ్‌లో ఉపయోగించబడుతుంది.

(3) పనితీరు అవసరాలు: అధిక సాంకేతిక అవసరాలు మరియు విస్తృత అప్లికేషన్ పరిధి.

　　4. సమాచార నిల్వ కోసం లక్ష్యం

(1) సాధారణ లక్ష్యాలు: కోబాల్ట్ / నికెల్ / ఫెర్రోఅల్లాయ్ / క్రోమియం / టెల్లూరియం / సెలీనియం మరియు సమాచార నిల్వ కోసం ఇతర పదార్థాల సాధారణ లక్ష్యాలు.

(2) ఉపయోగం: ఈ రకమైన లక్ష్య పదార్థం ప్రధానంగా మాగ్నెటిక్ హెడ్, మధ్య పొర మరియు ఆప్టికల్ డ్రైవ్ మరియు ఆప్టికల్ డిస్క్ యొక్క దిగువ పొర కోసం ఉపయోగించబడుతుంది.

(3) పనితీరు అవసరాలు: అధిక నిల్వ సాంద్రత మరియు అధిక ప్రసార వేగం అవసరం.

　　5. సాధనం సవరణ కోసం లక్ష్యం

(1) సాధారణ లక్ష్యాలు: సాధనాల ద్వారా సవరించబడిన టైటానియం / జిర్కోనియం / క్రోమియం అల్యూమినియం మిశ్రమం వంటి సాధారణ లక్ష్యాలు.

(2) ఉపయోగం: సాధారణంగా ఉపరితల పటిష్టత కోసం ఉపయోగిస్తారు.

(3) పనితీరు అవసరాలు: అధిక పనితీరు అవసరాలు మరియు సుదీర్ఘ సేవా జీవితం.

　　6. ఎలక్ట్రానిక్ పరికరాల కోసం లక్ష్యాలు

(1) సాధారణ లక్ష్యాలు: ఎలక్ట్రానిక్ పరికరాల కోసం సాధారణ అల్యూమినియం మిశ్రమం / సిలిసైడ్ లక్ష్యాలు

(2) ప్రయోజనం: సాధారణంగా సన్నని ఫిల్మ్ రెసిస్టర్‌లు మరియు కెపాసిటర్‌ల కోసం ఉపయోగిస్తారు.

(3) పనితీరు అవసరాలు: చిన్న పరిమాణం, స్థిరత్వం, తక్కువ నిరోధక ఉష్ణోగ్రత గుణకం