థిన్ ఫిల్మ్ డిపాజిషన్ టెక్నాలజీని నిశితంగా పరిశీలించండి

సన్నని చలనచిత్రాలు పరిశోధకుల దృష్టిని ఆకర్షిస్తూనే ఉన్నాయి.ఈ కథనం వాటి అప్లికేషన్‌లు, వేరియబుల్ డిపాజిషన్ పద్ధతులు మరియు భవిష్యత్ ఉపయోగాలపై ప్రస్తుత మరియు మరింత లోతైన పరిశోధనను అందిస్తుంది.
"ఫిల్మ్" అనేది రెండు-డైమెన్షనల్ (2D) పదార్థానికి సంబంధించిన పదం, ఇది దాని ఉపరితలం కంటే చాలా సన్నగా ఉంటుంది, ఇది ఉపరితలాన్ని కవర్ చేయడానికి లేదా రెండు ఉపరితలాల మధ్య శాండ్‌విచ్ చేయడానికి ఉద్దేశించినది.ప్రస్తుత పారిశ్రామిక అనువర్తనాల్లో, ఈ సన్నని చలనచిత్రాల మందం సాధారణంగా ఉప-నానోమీటర్ (nm) పరమాణు కొలతలు (అంటే <1 nm) నుండి అనేక మైక్రోమీటర్ల (μm) వరకు ఉంటుంది.ఒకే-పొర గ్రాఫేన్ ఒక కార్బన్ అణువు (అంటే ~0.335 nm) మందం కలిగి ఉంటుంది.
చరిత్రపూర్వ కాలంలో చిత్రాలను అలంకార మరియు చిత్ర ప్రయోజనాల కోసం ఉపయోగించారు.నేడు, లగ్జరీ వస్తువులు మరియు ఆభరణాలు కాంస్య, వెండి, బంగారం మరియు ప్లాటినం వంటి విలువైన లోహాల సన్నని పొరలతో పూత పూయబడ్డాయి.
చలనచిత్రాల యొక్క అత్యంత సాధారణ అనువర్తనం రాపిడి, ప్రభావం, గీతలు, కోత మరియు రాపిడి నుండి ఉపరితలాల యొక్క భౌతిక రక్షణ.డైమండ్-వంటి కార్బన్ (DLC) మరియు MoSi2 పొరలు ఆటోమోటివ్ ఇంజిన్‌లను ధరించకుండా మరియు యాంత్రిక కదిలే భాగాల మధ్య ఘర్షణ వలన ఏర్పడే అధిక ఉష్ణోగ్రత తుప్పు నుండి రక్షించడానికి ఉపయోగించబడతాయి.
పర్యావరణం నుండి రియాక్టివ్ ఉపరితలాలను రక్షించడానికి సన్నని చలనచిత్రాలు కూడా ఉపయోగించబడతాయి, అది తేమ కారణంగా ఆక్సీకరణం లేదా ఆర్ద్రీకరణ కావచ్చు.షీల్డింగ్ కండక్టివ్ ఫిల్మ్‌లు సెమీకండక్టర్ పరికరాలు, డైలెక్ట్రిక్ ఫిల్మ్ సెపరేటర్లు, థిన్ ఫిల్మ్ ఎలక్ట్రోడ్‌లు మరియు ఎలెక్ట్రోమాగ్నెటిక్ ఇంటర్‌ఫెరెన్స్ (EMI) రంగాలలో చాలా దృష్టిని ఆకర్షించాయి.ప్రత్యేకించి, మెటల్ ఆక్సైడ్ ఫీల్డ్ ఎఫెక్ట్ ట్రాన్సిస్టర్‌లు (MOSFETలు) SiO2 వంటి రసాయనికంగా మరియు ఉష్ణంగా స్థిరంగా ఉండే విద్యుద్వాహక చిత్రాలను కలిగి ఉంటాయి మరియు కాంప్లిమెంటరీ మెటల్ ఆక్సైడ్ సెమీకండక్టర్స్ (CMOS) వాహక రాగి చిత్రాలను కలిగి ఉంటాయి.
థిన్-ఫిల్మ్ ఎలక్ట్రోడ్‌లు శక్తి సాంద్రత యొక్క నిష్పత్తిని సూపర్ కెపాసిటర్ల వాల్యూమ్‌కు అనేక రెట్లు పెంచుతాయి.అదనంగా, మెటల్ థిన్ ఫిల్మ్‌లు మరియు ప్రస్తుతం MXenes (ట్రాన్సిషన్ మెటల్ కార్బైడ్‌లు, నైట్రైడ్‌లు లేదా కార్బోనిట్రైడ్‌లు) పెరోవ్‌స్కైట్ సిరామిక్ థిన్ ఫిల్మ్‌లు విద్యుదయస్కాంత జోక్యం నుండి ఎలక్ట్రానిక్ భాగాలను రక్షించడానికి విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతున్నాయి.
PVDలో, లక్ష్య పదార్థం ఆవిరైపోతుంది మరియు సబ్‌స్ట్రేట్ ఉన్న వాక్యూమ్ చాంబర్‌కి బదిలీ చేయబడుతుంది.ఘనీభవనం కారణంగా ఆవిరి ఉపరితలం ఉపరితలంపై జమ చేయడం ప్రారంభమవుతుంది.వాక్యూమ్ ఆవిరి అణువులు మరియు అవశేష వాయువు అణువుల మధ్య మలినాలను మరియు ఘర్షణలను కలపడాన్ని నిరోధిస్తుంది.
ఆవిరిలోకి ప్రవేశపెట్టిన అల్లకల్లోలం, ఉష్ణోగ్రత ప్రవణత, ఆవిరి ప్రవాహం రేటు మరియు లక్ష్య పదార్థం యొక్క గుప్త వేడి చలనచిత్ర ఏకరూపత మరియు ప్రాసెసింగ్ సమయాన్ని నిర్ణయించడంలో ముఖ్యమైన పాత్ర పోషిస్తాయి.బాష్పీభవన పద్ధతులలో రెసిస్టివ్ హీటింగ్, ఎలక్ట్రాన్ బీమ్ హీటింగ్ మరియు, ఇటీవల, మాలిక్యులర్ బీమ్ ఎపిటాక్సీ ఉన్నాయి.
సాంప్రదాయ PVD యొక్క ప్రతికూలతలు చాలా ఎక్కువ ద్రవీభవన స్థానం పదార్థాలను ఆవిరి చేయడంలో అసమర్థత మరియు బాష్పీభవన-సంక్షేపణ ప్రక్రియ కారణంగా డిపాజిటెడ్ మెటీరియల్‌లో ప్రేరేపించబడిన నిర్మాణ మార్పులు.మాగ్నెట్రాన్ స్పుట్టరింగ్ అనేది ఈ సమస్యలను పరిష్కరించే తదుపరి తరం భౌతిక నిక్షేపణ సాంకేతికత.మాగ్నెట్రాన్ స్పుట్టరింగ్‌లో, మాగ్నెట్రాన్ ద్వారా ఉత్పన్నమయ్యే అయస్కాంత క్షేత్రం ద్వారా శక్తివంతమైన సానుకూల అయాన్‌లతో బాంబు పేల్చడం ద్వారా లక్ష్య అణువులు బయటకు తీయబడతాయి (స్పుట్టర్డ్).
ఆధునిక ఎలక్ట్రానిక్, ఆప్టికల్, మెకానికల్, ఫోటోనిక్, థర్మల్ మరియు అయస్కాంత పరికరాలు మరియు వాటి బహుముఖ ప్రజ్ఞ, కాంపాక్ట్‌నెస్ మరియు క్రియాత్మక లక్షణాల కారణంగా డెకర్ వస్తువులలో సన్నని చలనచిత్రాలు ప్రత్యేక స్థానాన్ని ఆక్రమించాయి.PVD మరియు CVD అనేది కొన్ని నానోమీటర్ల నుండి కొన్ని మైక్రోమీటర్ల వరకు మందంతో సన్నని చలనచిత్రాలను ఉత్పత్తి చేయడానికి సాధారణంగా ఉపయోగించే ఆవిరి నిక్షేపణ పద్ధతులు.
డిపాజిటెడ్ ఫిల్మ్ యొక్క చివరి స్వరూపం దాని పనితీరు మరియు సామర్థ్యాన్ని ప్రభావితం చేస్తుంది.ఏది ఏమైనప్పటికీ, సన్నని ఫిల్మ్ బాష్పీభవన నిక్షేపణ సాంకేతికతలకు అందుబాటులో ఉన్న ప్రక్రియ ఇన్‌పుట్‌లు, ఎంచుకున్న లక్ష్య పదార్థాలు మరియు ఉపరితల లక్షణాల ఆధారంగా సన్నని చలనచిత్ర లక్షణాలను ఖచ్చితంగా అంచనా వేయడానికి తదుపరి పరిశోధన అవసరం.
గ్లోబల్ సెమీకండక్టర్ మార్కెట్ ఒక ఉత్తేజకరమైన కాలంలో ప్రవేశించింది.చిప్ సాంకేతికత కోసం డిమాండ్ పరిశ్రమ అభివృద్ధిని ప్రోత్సహించింది మరియు మందగించింది మరియు ప్రస్తుత చిప్ కొరత కొంత కాలం పాటు కొనసాగుతుందని భావిస్తున్నారు.ప్రస్తుత పోకడలు ఇది కొనసాగితే పరిశ్రమ భవిష్యత్తును తీర్చిదిద్దే అవకాశం ఉంది
గ్రాఫేన్-ఆధారిత బ్యాటరీలు మరియు ఘన-స్థితి బ్యాటరీల మధ్య ప్రధాన వ్యత్యాసం ఎలక్ట్రోడ్ల కూర్పు.కాథోడ్‌లు తరచుగా సవరించబడినప్పటికీ, యానోడ్‌లను తయారు చేయడానికి కార్బన్ యొక్క అలోట్రోప్‌లను కూడా ఉపయోగించవచ్చు.
ఇటీవలి సంవత్సరాలలో, ఇంటర్నెట్ ఆఫ్ థింగ్స్ దాదాపు అన్ని ప్రాంతాలలో వేగంగా అమలు చేయబడింది, అయితే ఇది ఎలక్ట్రిక్ వాహనాల పరిశ్రమలో చాలా ముఖ్యమైనది.