FeNi స్పుట్టరింగ్ టార్గెట్ హై ప్యూరిటీ థిన్ ఫిల్మ్ Pvd కోటింగ్ కస్టమ్ మేడ్

ఐరన్ నికెల్ స్పుట్టరింగ్ టార్గెట్ వాక్యూమ్ మెల్టింగ్, కాస్టింగ్ మరియు PM ద్వారా తయారు చేయబడింది.ఇది తక్కువ క్షేత్ర బలం వద్ద చాలా ఎక్కువ అయస్కాంత పారగమ్యతను కలిగి ఉంటుంది.

ఒక ఐరన్ నికెల్ లక్ష్యం (నికెల్>30 wt%) గది ఉష్ణోగ్రత వద్ద ముఖ-కేంద్రీకృత క్యూబిక్ నిర్మాణాన్ని ప్రదర్శిస్తుంది.సాంప్రదాయకంగా నికెల్ ఐరన్ లక్ష్యాలు 36% కంటే ఎక్కువ నికెల్ కూర్పును కలిగి ఉంటాయి మరియు వీటిని నాలుగు వర్గాలుగా విభజించవచ్చు: 35%40% Ni-Fe、45%～50% Ni-Fe,50%～65% Ni-Fe మరియు 70% ～81% Ni-Fe.ప్రతి ఒక్కటి వృత్తాకార, దీర్ఘచతురస్రాకార లేదా ప్లేన్ మాగ్నెటిక్ హిస్టెరిసిస్ లూప్‌లతో పదార్థాలుగా తయారు చేయబడుతుంది.

నికెల్ ఐరన్ (Ni-Fe) స్పుట్టరింగ్ టార్గెట్‌లు విస్తృత శ్రేణి అప్లికేషన్‌లలో ఉపయోగించబడతాయి, ఉదాహరణకు మాగ్నెటిక్ స్టోరేజ్ మీడియా మరియు EMI షీల్డింగ్ పరికరాలు.

రిచ్ స్పెషల్ మెటీరియల్స్ స్పుట్టరింగ్ టార్గెట్ తయారీలో ప్రత్యేకత కలిగి ఉంది మరియు కస్టమర్ల స్పెసిఫికేషన్‌ల ప్రకారం ఐరన్ నికెల్ స్పుట్టరింగ్ మెటీరియల్‌లను ఉత్పత్తి చేయగలదు.మేము స్వచ్ఛత 99.99% మరియు మా సాధారణ కూర్పులను సరఫరా చేయగలము: Ni-Fe10at%、N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%.మరింత సమాచారం కోసం, దయచేసి మమ్మల్ని సంప్రదించండి.