CuW స్పుట్టరింగ్ టార్గెట్ హై ప్యూరిటీ థిన్ ఫిల్మ్ Pvd కోటింగ్ కస్టమ్ మేడ్

రాగి టంగ్‌స్టన్ మిశ్రమం స్పుట్టరింగ్ లక్ష్యం పొడి లోహశాస్త్రం ద్వారా తయారు చేయబడింది.రాగి యొక్క కంటెంట్ ఎక్కువగా 10% మరియు 50% మధ్య ఉంటుంది.ఇది అద్భుతమైన ఉష్ణ మరియు విద్యుత్ వాహకత, అధిక ఉష్ణోగ్రత బలం మరియు డక్టిలిటీని కలిగి ఉంటుంది.3000°C కంటే ఎక్కువ ఉష్ణోగ్రతల వద్ద, మిశ్రమంలోని రాగి ద్రవీకరించబడుతుంది మరియు ఆవిరైపోతుంది, పెద్ద మొత్తంలో వేడిని గ్రహించి, పదార్థం యొక్క ఉపరితల ఉష్ణోగ్రతను తగ్గిస్తుంది.ఈ రకమైన పదార్థాన్ని మెటల్ చెమట పదార్థం అని కూడా అంటారు.

టంగ్‌స్టన్ మరియు రాగి యొక్క రెండు లోహాలు ఒకదానికొకటి అనుకూలంగా లేనందున, రాగి-టంగ్‌స్టన్ మిశ్రమం తక్కువ విస్తరణ, దుస్తులు నిరోధకత, టంగ్‌స్టన్ యొక్క తుప్పు నిరోధకత మరియు రాగి యొక్క అధిక విద్యుత్ మరియు ఉష్ణ వాహకత కలిగి ఉంటుంది మరియు ఇది వివిధ యాంత్రిక ప్రాసెసింగ్‌లకు అనుకూలంగా ఉంటుంది.కాపర్-టంగ్స్టన్ నిష్పత్తి ఉత్పత్తి మరియు పరిమాణ ప్రాసెసింగ్ కోసం వినియోగదారు అవసరాలకు అనుగుణంగా రాగి టంగ్స్టన్ మిశ్రమాలను ఉత్పత్తి చేయవచ్చు.రాగి-టంగ్‌స్టన్ మిశ్రమాలు సాధారణంగా పౌడర్-బ్యాచ్ మిక్సింగ్-ప్రెస్ మోల్డింగ్-సింటరింగ్ ఇన్‌ఫిల్ట్రేషన్‌ను సిద్ధం చేయడానికి పౌడర్ మెటలర్జీ ప్రక్రియలను ఉపయోగిస్తాయి.

రిచ్ స్పెషల్ మెటీరియల్స్ స్పుట్టరింగ్ టార్గెట్ తయారీలో ప్రత్యేకత కలిగి ఉంది మరియు కస్టమర్ల స్పెసిఫికేషన్‌ల ప్రకారం కాపర్-టంగ్‌స్టన్ స్పుట్టరింగ్ మెటీరియల్‌లను ఉత్పత్తి చేయగలదు.మరింత సమాచారం కోసం, దయచేసి మమ్మల్ని సంప్రదించండి.